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    镍靶块

      添加时间2018-11-23 16:57:36 浏览次数6644
     
    镍靶块
     
    简要介绍:
     
    镍靶材、镍圆靶、高纯镍靶
     
    1、名称:镍靶材、镍圆靶
     
    2、牌号:N4,N6,UNSN02200
     
    3、技术条件:符合GB/T4435-84,ASTM B160-93
     
    4、用途:用于电子信息,半导体、平面显示器、溅射镀膜,化工等。
                                                                                                                     
     
    纯度
      
    纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶
     
    材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6, 8发展到12, 而布线宽
     
    度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC
     
    的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
       杂质含量
      
     靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含
     
    量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特
     
    殊要求。
       密度
      
    为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅
     
    影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材
     
    的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
     
      晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
      
    通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比
     
    晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均
     
    匀。
     
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